◇1ボス 主な技名
収束粒子砲:範囲の重なりが安置
対地レーザー:対象1名に連続範囲攻撃
拡散粒子砲:全体範囲
航空支援・爆撃:各アライアンス外周に雑魚出現+マーカー対象連続範囲攻撃・頭割り
終焉ノ歌:ボスから波状発生、切れ目で回避
偏向粒子砲:外周から直線範囲+ボス銃口から直線範囲
旋回粒子砲:外周の直線を最初に回避し、その後旋回範囲を回避
対地レーザー&収束粒子砲:マーカー対象者は外周へ捨て、範囲が重複したところへ回避
終焉ノ歌
<タイムライン>
対人レーザー:MTへの強攻撃
収束粒子砲
旋回粒子砲
航空支援・爆撃:ランダム対象1名に連続範囲
偏向粒子砲:ボス銃口から直線範囲
収束粒子砲
●拡散粒子砲
航空支援・爆撃
終焉の歌×3
航空支援・爆撃
偏向粒子砲
対地レーザー&収束粒子砲
終焉の歌×3
航空支援・突撃
旋回粒子砲
◇雑魚戦
◇2ボス 主な技名
高出力レーザー:直線頭割り、外周へ向ける
転回斬撃:突進、ボスの行動によって安置が変わる
中央安置:ボスの進行方向左剣左、ボスの進行方向右剣右
角安置:ボスの進行方向左剣右、ボスの進行方向右剣左
急襲爆撃:外周から範囲+ボス足元円範囲3
突進斬撃:ボスが中央集合、剣の出ている方向を確認して回避
爆風効果弾頭:直線AoE端で回避
<タイムライン>
●ミサイル全弾発射×3:全体範囲
●焼尽ミサイル;ランダム2名にマーカー範囲
●高出力レーザー
転回斬撃
急襲爆撃
突進斬撃
◇高性能誘導ミサイル:MTへの強攻撃
●ミサイル乱射:ランダム2名にマーカー円範囲+ヒラ1名に連続円範囲
●高出力レーザー
●ミサイル全弾発射
急襲爆撃
旋回斬撃
◇高性能誘導ミサイル
●焼尽ミサイル
爆風効果弾頭
●ミサイル全弾発射
◇3ボス 主な技名
レーザータレット:中央から長さの違う範囲、外周へ回避しその後できた安置へ回避
地穿潰砕(ちせんかいさい?)+回転レーザー:詠唱と共に円範囲が3カ所表示される。3カ所目のところでドーナツ範囲がでるので近寄っておく。
ポッドプログラム:ポッドから直線or円形範囲。ポッドの後ろの画面で形状を確認。後半の安置は直線と直線の間が安置
爆発性化合物:塔踏み、処理する人数は画面から確認
<タイムライン>
●拡散ヴォルト:全体範囲
レーザータレット
◇高出力レーザー:MTへの直線範囲
●収束ヴォルト:マーカー対象者への扇状範囲
迫撃エネルギー弾:ランダム対象連続円範囲
地穿潰砕+回転レーザー
●拡散ヴォルト
210自我データ:詠唱のみ
●環状銃撃ユニット:外周からデバフ付き球体
●拡散ヴォルト
ポッド射出:外周にポッド出現
ポッドプログラム(円)
ポッド射出
ポッドプログラム(直線)
爆発性化合物
●拡散ヴォルト
収束ヴォルト
迫撃エネルギー弾
◇高出力レーザー
●拡散ヴォルト
●拡散ヴォルト
ポッド射出
ポッドプログラム(円+直線、線と線の間が安置)
◇4ボスー1 主な技名
制圧光撃:全体範囲
断機光撃:直線範囲
斬機光撃:ボス足元安置
砕機光撃:円範囲+ランダム対象者に円範囲
逆断震回転:ボス外周2体出現、最初に北側に寄って回避
<タイムライン>
●制圧光撃
斬機光撃
断機光撃
●砕機光撃
逆断震回転
制圧光撃
◇4ボスー2 主な技名
全面斬機:全体範囲
渦状光維奔突(かじょうこういほんとつ?):対象者に3連続円範囲
充填:ボスの構えによって攻撃方法が異なる。
三連衝撃斬:三回頭割り
R012:タンクへの強攻撃+円範囲+円マーカー
四連断重撃:ランダムでボスと線が繋がる。1回目・3回目は円範囲、2回目・4回目は直線範囲
分体生成:ボスの分身出現
エネルギー凝縮:塔踏み
R011:外周ポッドから直線範囲
<タイムライン>
●全面断機
渦状光維奔突
充填(ボス中心円範囲)
充填(ボス前方直線範囲)
充填(ボス中心ドーナツ範囲)
充填(偽装プログラム、光波が流れている方が安置)
●全面断機
●三連衝撃斬
●◇R012
●四連断重撃
分体生成:詠唱のみ
充填
充填(分身へ回避or離れる)
●エネルギー凝縮
●エネルギー凝縮+強制転移:光波が流れてる方が正解
●R011+強制転移:光波が流れている方が正解
渦状光維奔突
参考攻略サイト:Game8様【FF14】人形タチノ軍事基地の攻略